Luvum Calming Repair Cica Gel Mask (5stk)

  1. Hjem
  2. Luvum
  3. Luvum Calming Repair Cica Gel Mask (5stk)

Luvum Calming Repair Cica Gel Mask (5stk)

369 kr,-
Avgift inkludert.
Tilgjengelighet:
På lager
Selger
Luvum
Collections:
Luvum

    Gi huden din pleie og styrke med Calming Repair Cica Gel Mask. Denne unike hydrogelmaske er beriket med blant annet Centella Asiatica-ekstrakt.Hydrogelfilmen smelter, sitter godt på huden, lindrer irritasjoner, og etterlater huden jevn, smidig og godt beskyttet. Perfekt for å fremheve en strålende, balansert hud med en styrket barriere.

    Masken vil gi deg:

    • Beroliger og reparerer huden
    • Gir huden intensiv fuktighet
    • Huden vil kjennes myk og smidig 

    Bruk masken etter du har renset og brukt toner. Klapp den forsiktig på plass slik at den sitter godt. Masken bør være på i minst 40 minutter, optimalt minst tre timer, den kan fint brukes som en nattmaske. Masser forsiktig inn overflødig produkt når masken fjernes.

    Renset vann, Dipropylenglykol, Glyserin, Cetyl Ethylhexanoat, 1,2-Heksanediol, Ceratonia Siliqua (Johannesbrød) gummi, Chondrus Crispus-pulver, Chondrus Crispus-ekstrakt, Glycerylstearat, Betain, Panthenol, Sheasmør, Butylenglykol, Paeonia Suffruticosa-rotekstrakt, Centella Asiatica-ekstrakt, Kaliumklorid, Natriumpolyakrylat, Cellulosegummi, Polysorbate 60, Hydrogenerte polydecener, Chamomilla Recutita (Matricaria) blomstekstrakt, Glycerylkaprylat, Sukrose, Xylitylglukosid, Etylheksylglyserin, Anhydroxylitol, Gardenia Florida-fruktekstrakt, Xylitol, Trideceth-6, Dextrin, Glukose, Pantolacton, Mentha Arvensis-ekstrakt, Eucalyptus Globulus-bladekstrakt, Cymbopogon Citratus-ekstrakt, Aloe Barbadensis-bladekstrakt, Macadamia Ternifolia-frøolje, Hydrogenerte lecitin, Erytritol, Kapryl-/kaprinsyretriglyserider, Ceramide NP, Brassica Campestris (raps) steroler, Kolesterol, Polyglyseryl-3 Metylglukosedistearat, Madecassoside, Dipotassium Glycyrrhizate, Allantoin, Asiaticoside, Madecassic Acid, Asiatic Acid, Dinatrium EDTA, PEG-100 Stearat, Parfyme.